Анализ структуры и магнитных свойств интерфейса в многослойных наноструктурах (Fe/Si) N с применением поверхностно-чувствительного метода XMCD

Описание

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2014

Аннотация: Представлены результаты исследования структурных и магнитных свойств наноструктур (Fe/Si) N, полученных при последовательном напылении на поверхность SiO 2/Si(100) при температуре подложки 300 K. Измерения методом просвечивающей электронной микроскопии позволили определить толщины всех слоев Fe и Si. Магнитные свойства исследованы методом рентгеновского магнитного кругового дихроизма (XMCD) вблизи L 3, 2 -краев поглощения Fe. Разделены орбитальный (m l ) и спиновый (m S ) вклады в полный магнитный момент железа. С использованием поверхностной чувствительности метода XMCD и модели интерфейса из немагнитной и ослабленной магнитной фаз, определены толщины магнитного и немагнитного силицида Fe на интерфейсах Si/Fe и Fe/Si.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики

Выпуск журнала: Т.99, 11-12

Номера страниц: 817-823

ISSN журнала: 0370274X

Место издания: Москва

Издатель: Федеральное государственное унитарное предприятие "Академический научно-издательский, производственно-полиграфический и книгораспространительский центр Российской академии наук "Издательство "Наука"

Авторы

  • Платунов М.С. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)
  • Варнаков С.Н. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)
  • Жарков С.М. (Сибирский федеральный университет)
  • Бондаренко Г.В. (Институт физики им. Киренского СО РАН)
  • Вешке О. (BESSY II, Helmholtz-Zentrum Berlin)
  • Шиерле Э. (BESSY II, Helmholtz-Zentrum Berlin)
  • Овчинников С.Г. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)

Вхождение в базы данных