Тип публикации: патент
Год издания: 2021
Аннотация: Изобретение относится к литографическим шаблонам. Активный литографический шаблон характеризуется тем, что он содержит элементы в виде островков и окон, причем элементы в виде островков выполнены с возможностью совершать микромеханическое движение на расстояния от 1 нм до 500 мкм на этапе формирования шаблона и/или на этапе нанесенПоказать полностьюия слоя/слоев целевого материала через данный шаблон, причем указанное движение обусловлено релаксацией механических напряжений в островках шаблона, механические напряжения, в свою очередь, вызваны протеканием физической и/или химической реакции в веществе островков шаблона, инициируемой внешним физическим и/или химическим воздействием. Изобретение обеспечивает увеличение максимальной допустимой толщины наносимого через шаблон материала и увеличение технологичности создания и использования шаблона. 3 н. и 17 з.п. ф-лы, 28 ил.<br> FIELD: lithography.<br> SUBSTANCE: invention relates to lithographic templates. An active lithographic template is characterized by that it contains elements in the form of islands and windows, wherein elements in the form of islands are made with the possibility to perform micromechanical movement at distances from 1 nm to 500 mcm at the stage of template formation and/or at the stage of applying a layer/layers of target material through this template, wherein the specified movement occurs due to the relaxation of mechanical stresses in islands of the template, mechanical stresses, in turn, are caused by a physical and/or chemical reaction in substance of islands of the template, initiated by external physical and/or chemical influence. <br> EFFECT: invention provides an increase in the maximum allowable thickness of material applied through the template and an increase in the manufacturability of creating and using the template.<br> 20 cl, 28 dwg<br>