Эллипсометрическая экспресс-методика определения толщины и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO2/Si(100)

Описание

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2012

Аннотация: Разработан и реализован алгоритм, позволяющий проводить эксперсс-контроль толщины и оптических постоянных структур в процессе роста. Проведена апробация алгоритма на структурах Fe/SiO2/Si(100), полученных в установке молекулярно-лучевой эпитаксии "Ангара". Значения толщин пленок, рассчитанные в ходе их роста, сравнены с данными ренПоказать полностьютгеноспектрального флуоресцентного анализа и просвечивающей электронной микроскопии.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Журнал технической физики

Выпуск журнала: Т.82, 9

Номера страниц: 44-48

ISSN журнала: 00444642

Место издания: Санкт-Петербург

Издатель: Федеральное государственное унитарное предприятие Академический научно-издательский, производственно-полиграфический и книгораспространительский центр Наука

Авторы

Вхождение в базы данных