Оптические свойства эпитаксиальной пленки силицида железа Fe 3Si/Si(111)

Описание

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2014

Аннотация: Методом спектральной эллипсометрии измерена дисперсия диэлектрической проницаемости ? эпитаксиальной пленки силицида железа Fe 3Si толщиной 27 нм в области энергий E = (1.16?4.96) эВ. Результаты сравниваются с дисперсией диэлектрической проницаемости, вычисленной в рамках метода функционала плотности с аппроксимацией GGA-PBE. РассчПоказать полностьюитаны электронная структура Fe 3Si и плотность электронных состояний (DOS). Анализ частот теоретически рассчитанных оптических переходов между пиками DOS дает качественное согласие с экспериментально измеренными пиками поглощения. Анализ данных одноволновой лазерной эллипсометрии, полученных в процессе синтеза пленки, показывает, что формирование сплошного слоя пленки силицида железа Fe 3Si происходит при достижении ее толщиной в 5 нм.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики

Выпуск журнала: Т.99, 9-10

Номера страниц: 651-655

ISSN журнала: 0370274X

Место издания: Москва

Издатель: Федеральное государственное унитарное предприятие Академический научно-издательский, производственно-полиграфический и книгораспространительский центр Наука

Авторы

  • Тарасов И.А. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)
  • Попов З.И. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)
  • Варнаков С.Н. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)
  • Молокеев М.С. (Институт физики им. Киренского СО РАН)
  • Федоров А.С. (Институт физики им. Киренского СО РАН)
  • Яковлев И.А. (Институт физики им. Киренского СО РАН)
  • Федоров Д.А. (Институт физики им. Киренского СО РАН)
  • Овчинников С.Г. (Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева)

Вхождение в базы данных