Тип публикации: патент
Год издания: 2026
Аннотация: Изобретение относится к выполненному с возможностью вращения подложкодержателю с заслонкой для получения тонкой пленки со ступенчатой структурой в установке вакуумного напыления. Упомянутый подложкодержатель содержит корпус подложкодержателя с двумя ступенчатыми проточками для ограничения поступательного перемещения заслонки по направляющим полозьям на каждой ступени выступом каждой ступени и два проточенных в корпусе подложкодержателя сквозных окна. Для изоляции части материала первого слоя, напыленного при концентрическом совмещении двух сквозных окон корпуса заслонки с двумя сквозными окнами в корпусе подложкодержателя, от материала второго слоя материал второго слоя напылен при ограничении поступательного движения заслонки первым выступом ступенчатой проточки. Для изоляции упомянутого материала второго слоя от материала третьего слоя материал третьего слоя напылен при ограничении поступательного движения заслонки вторым выступом ступенчатой проточки. Заслонка выполнена с возможностью поступательного перемещения посредством манипулятора. Окна в корпусе заслонки выполнены меньшим размером, чем окна в корпусе подложкодержателя. В совокупности два сквозных окна в корпусе заслонки, концентрически совмещенные с двумя окнами в корпусе подложкодержателя, являются посадочным местом для двух подложек из различных материалов. Обеспечивается получение заслонки, обеспечивающей частичное перекрытие подложки для напыления частей пленки заданной толщины и химического состава. 6 ил., 1 пр.<img src="/get_item_image.asp?id=88922520&img=00000001.jpg" class="img_big"> FIELD: technology. SUBSTANCE: invention relates to a rotatable substrate holder with a shutter for obtaining a thin film with a stepped structure in a vacuum deposition installation. The mentioned substrate holder comprises a substrate holder body with two stepped grooves for limiting the translational movement of the shutter along guide skids at each step by the protrusion of each step and two through windows milled in the substrate holder body. To isolate part of the material of the first layer, deposited during concentric alignment of two through windows of the shutter body with two through windows in the substrate holder body, from the material of the second layer, the material of the second layer is deposited when limiting the translational movement of the shutter by the first protrusion of the stepped groove. To isolate the mentioned material of the second layer from the material of the third layer, the material of the third layer is deposited when limiting the translational movement of the shutter by the second protrusion of the stepped groove. The shutter is made capable of translational movement by means of a manipulator. The windows in the shutter body are made smaller than the windows in the substrate holder body. In total, the two through windows in the shutter body, concentrically aligned with the two windows in the substrate holder body, are a mounting place for two substrates made of different materials. EFFECT: obtaining a shutter providing partial covering of the substrate for deposition of film parts of specified thickness and chemical composition. 1 cl, 6 dwg, 1 ex