Поворотный контейнер подложки с "маской" для формирования тонких пленок различной конфигурации : патент на изобретение

Описание

Тип публикации: патент

Год издания: 2023

Аннотация:

Изобретение относится к поворотному контейнеру для формирования тонких пленок на подложке. Указанный поворотный контейнер содержит плоскую пластину со столбиком-выравнивателем и маску. Плоская пластина соединена соединительным стержнем с маской. В указанной пластине выполнено посадочное место в виде ячейки для размещения подложки, внутри которого концентрически выполнена сквозная проточка окна для напыления подложки. Посадочное место накрыто крышечкой-фиксатором. Маска представляет собой титановую пластину круглой формы с четырьмя окнами и имеет четыре столбика-выравнивателя, расположенные по позициям указанных окон. Плоская пластина выполнена с возможностью передвижения относительно маски и позиционирования посадочного места с подложкой над заданным окном маски посредством расположения столбика-выравнивателя плоской пластины и соответствующего заданному окну маски столбика-выравнивателя маски в одну линию. Обеспечивается получение тонких пленок с заданной конфигурацией за один технологический цикл. 3 ил.

FIELD: mechanics.

SUBSTANCE: rotary container comprises a flat plate with an alignment column and a mask. The flat plate is connected by a connecting rod to the mask. In said plate, a seat is made in the form of a cell for placing the substrate, inside which a through groove of the window for spraying the substrate is concentrically made. The seat is covered with a locking cap. The mask is a titanium plate of a round shape with four windows and has four alignment columns located at the positions of these windows. The flat plate is configured to move relative to the mask and positioning the seat with the substrate over the given mask window by arranging the flat plate alignment column and the mask alignment column corresponding to the given mask window in one line.

EFFECT: obtaining thin films with a given configuration within one process cycle.

1 cl, 3 dwg

Ссылки на полный текст

Вхождение в базы данных