АНОМАЛЬНЫЙ ЭФФЕКТ ХОЛЛА В ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ТОНКИХ ПЛЕНКАХ MN5GE3 ВЫРАЩЕННЫХ НА ПОДЛОЖКАХ SI(111) : доклад, тезисы доклада

Описание

Перевод названия: ANOMALOUS HALL EFFECT IN EPITAXIAL MN5GE3 THIN FILMS GROWN ON SI(111) SUBSTRATES

Тип публикации: доклад, тезисы доклада, статья из сборника материалов конференций

Конференция: РЕШЕТНЕВСКИЕ ЧТЕНИЯ; Красноярск; Красноярск

Год издания: 2022

Ключевые слова: hall resistance, anomalous Hall effect, resistivity of the films, hysteresis, сопротивление Холла, аномальный эффект Холла, удельное сопротивление пленок, гистерезис

Аннотация: В настоящей работе представлены исследования эффекта Холла и удельного сопротивления тонких пленок Mn5Ge3, выращенных на кремниевых подложках. Полученные результаты указывают на высокое качество полученных пленок. Удельное сопротивление пленок при температуре 3 К составляет 18 мкОм×см, что меньше по сравнению с пленками, выращеннымПоказать полностьюи на других подложках. Всё это делает пленки Mn5Ge3 перспективными для внедрения в кремниевую электронику. This work shows study of the Hall effect and resistivity of Mn5Ge3 thin films grown on silicon substrates. The result indicates the high quality of the obtained films. The resistivity of the films at 3 K is 18 μOhm×cm, which is less than films grown on other substrates All this makes the films promising for implementation in silicon electronics.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: РЕШЕТНЕВСКИЕ ЧТЕНИЯ

Выпуск журнала: Часть 1

Номера страниц: 666-668

Место издания: Красноярск

Издатель: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный университет науки и технологий имени академика М.Ф. Решетнева"

Персоны

  • Соболев И. А. (Сибирский федеральный университет)
  • Рауцкий М. В. (Институт физики им. Л. В. Киренского ФИЦ КНЦ СО РАН)
  • Яковлев И. А. (Институт физики им. Л. В. Киренского ФИЦ КНЦ СО РАН)
  • Варнаков С. Н. (Институт физики им. Л. В. Киренского ФИЦ КНЦ СО РАН)
  • Тарасов А. С. (Институт физики им. Л. В. Киренского ФИЦ КНЦ СО РАН)

Вхождение в базы данных