Влияние параметров подачи реагентов на температуру кремниевых стержней в Сименс?процессе

Описание

Перевод названия: EFFECT OF REACTANT INTRODUCTION PARAMETERS ON SILICON ROD TEMPERATURE IN SIEMENS PROCESS

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2010

Ключевые слова: Сименс?процесс, Siemens process, gas?vapor mixture, silicon, Hydrogen reduction, chlorides, hydrogen, convective heat transfer, emanation heat transfer, transmission spectra, Infrared region, кремний, водородное восстановление, хлориды, водород, теплообмен конвективный, теплообмен излучением, спектры пропускания, инфракрасная область

Аннотация: Представлены результаты исследования изменений температуры кремниевых стержней в зависимости от особенностей подачи в Сименс?реактор хлорсиланов (трихлорсилана SiHCl3) и водорода. Между изменениями подачи реагентов в реактор и температурой кремниевых стержней установлена определенная корреляция, которая не всегда может быть объяснеПоказать полностьюна с позиций конвективного теплообмена. Выдвинуто предположение, что наблюдаемые отклонения температуры стержней связаны с изменением прозрачности газовой среды реактора в ближней ИК?области и соответствующим влиянием оптических характеристик среды реактора на теплообмен излучением между водоохлаждаемыми стенками реактора и кремниевыми стержнями. На спектрах пропускания смеси SiНCl3, HCl и SiO2 в ИК?области обнаружена широкая полоса поглощения в диапазоне 2400-3100 см?1 (? = 3,2?4,2 мкм), обусловленная наличием в составе парогазовой смеси хлористого водорода. Наличие этой полосы поглощения позволило объяснить особенности теплообмена при кратковременных изменениях подачи реагентов в установку водородного восстановления и сделать вывод о том, что теплообмен в Сименс?реакторе при кратковременных изменениях параметров подачи парогазовой смеси обусловлен в основном теплообменом излучением. This paper presents results of study of changes in silicon rod temperature depending on details of SiHCl3 and hydrogen introduction into the Siemens reactor. We have found a correlation between changes of reactant introduction into the reactor and silicon rods temperature that are not always attributable to convective heat transfer. Therefore, we have assumed that these rod temperature deviations are governed by changes in the clarity of the reactor gas medium in the nearest infrared region and the respective effect of the reactor optical characteristics on emanation heat transfer between the water?cooled reactor walls and the silicon rods. To test this hypothesis, we have recorded infrared region transmission spectra of a mixture that included SiHCl3, HCl and SiO2. A broad absorption band was found in the range of 2400-3100 cm?1 (? = 3.2-4.2 ?m) caused by the presence of hydrogen chloride in gas?vapor mixture. This absorption band allows us to explain the heat transfer during short?term changes in the parameters of reactant introduction into the hydrogen reduction unit and to conclude that heat transfer in the Siemens reactor during short?term changes of gas?vapor mixture introduction parameters is mainly determined by emanation heat transfer.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники

Выпуск журнала: 1

Номера страниц: 10-14

ISSN журнала: 16093577

Место издания: Москва

Издатель: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»

Персоны

Вхождение в базы данных