Formation of residual stresses in nanoparticles during ultrafast quenching in the plasma of a low-pressure arc discharge : регистрация программы для ЭВМ

Описание

Тип публикации: патент

Год издания: 2021

Аннотация: Программа позволяет рассчитать параметры формирования остаточных напряжений в наночастицах при сверхбыстрой закалке в плазме дугового разряда низкого давления. В программе реализованы: удобный способ расчета с различными исходными данными; прогнозирование значений распределения напряжений в наночастицах, термомеханическое взаимодейПоказать полностьюствие наночастиц с газоплазменной фазой, учет деформации структур, давление и ламинарное течение плазмы, температуры плазмы, электрический потенциал, энергия осаждения частиц в виде двумерных и одномерных графиков; учет геометрии вакуумной камеры, испарение исходного материала, давления в вакуумной камере, особенности технологии синтеза наночастиц. Программа может быть использована организациями и специалистами в области синтеза нанопорошков. Тип ЭВМ: IBM PC-совмест. ПК; ОС: Linux, Solaris, Windows.

Ссылки на полный текст

Вхождение в базы данных