СПОСОБ УВЕЛИЧЕНИЯ ГИДРОФИЛЬНОСТИ ПОВЕРХНОСТИ ДЕНТАЛЬНЫХ ИМПЛАНТАТОВ

Описание

Тип публикации: патент

Год издания: 2021

Аннотация: Изобретение относится к медицине, а именно к стоматологии, и может быть использовано в дентальной имплантологии. Способ увеличения гидрофильности поверхности дентальных имплантатов включает воздействие на имплантат с предварительно фрезерованной, подверженной пескоструйной обработке и протравленной соляной кислотой поверхностью, поПоказать полностьюмещенный в плазменную камеру, холодной атмосферной плазмой. При этом перед началом обработки в камеру цилиндрической формы диаметром 170 мм и высотой 40 мм добавляют 20 мкл воды. Обработку проводят при давлении в камере 100 Па и комнатной температуре. Время обработки составляет по меньшей мере 60 с. Технический результат: обработка холодной плазмой дентальных имплантатов по предлагаемому методу позволяет максимально увеличить гидрофильность поверхности имплантата, что ускоряет его приживление, уменьшает реабилитационный период и сокращает процент осложнений после дентальной имплантации. 7 ил., 2 табл.<br> FIELD: medicine.<br> SUBSTANCE: invention refers to medicine, namely to dentistry, and can be used in dental implantology. Method for increasing hydrophilicity of the surface of dental implants involves exposing an implant with a pre-mill, subjected to sand blasting and etched with hydrochloric acid surface, placed in plasma chamber, cold atmospheric plasma. Prior to the beginning of treatment, 20 mcl of water is added into the cylindrical chamber with diameter of 170 mm and height of 40 mm. Treatment is carried out at chamber pressure of 100 Pa and room temperature. Processing time is at least 60 s.<br> EFFECT: technical result: cold plasma treatment of dental implants according to disclosed method enables maximizing hydrophilicity of implant surface, which accelerates engraftment, reduces the rehabilitation period and reduces the percentage of complications following dental implantation.<br> 1 cl, 7 dwg, 2 tbl<br>

Ссылки на полный текст

Авторы

Вхождение в базы данных