Перевод названия: METHOD FOR CREATING TRANSPARENT CONDUCTIVE COMPOSITE NANO-COATINGS (OPTIONS)
Тип публикации: патент
Год издания: 2018
Аннотация: Изобретение относится к способу создания прозрачных проводящих композитных нанопокрытий (варианты). По первому варианту предварительно осуществляют химическое осаждение на нагретую подложку тонкой пленки углеродных нанотрубок. Осуществляют реактивное магнетронное распыление металлической мишени в атмосфере газовой смеси инертного и реактивного газов с осаждением на подложку покрытия из оксида индия. При реактивном магнетронном распылении используют мишень из чистого индия, а в качестве упомянутой газовой смеси используют газовую смесь с содержанием инертного газа и 30% кислорода. По второму варианту предварительно на подложку наносят наномикросетку методом растрескивающихся полимерных шаблонов с использованием жидкого кремнезоля и напылением металла с электронной проводимостью. Осуществляют реактивное магнетронное распыление металлической мишени в атмосфере газовой смеси инертного и реактивного газов, с осаждением на подложку покрытия из оксида индия. При реактивном магнетронном распылении используют мишень из чистого индия и газовую смесь с содержанием в ней 21% кислорода. Техническим результатом является снижение поверхностного сопротивления прозрачных проводящих покрытий с электронной проводимостью, а также получение прозрачного проводящего покрытия с дырочной проводимостью. 2 н.п. ф-лы, 1 ил., 2 пр.<img src="/get_item_image.asp?id=41038482&img=00000001.jpg" class="img_big"> FIELD: technological processes. SUBSTANCE: invention relates to a method for creating transparent conductive composite nano-coatings (variants). In the first variant, chemical deposition of a thin film of carbon nanotubes is preliminarily carried out on a heated substrate. Reactive magnetron sputtering of the metal target is carried out in an atmosphere of a gaseous mixture of inert and reactive gases, with an indium oxide coating deposited on the substrate. In reactive magnetron sputtering, a pure indium target is used, and a gas mixture with an inert gas content and 30 % oxygen is used as said gas mixture. According to the second variant, the nano-micronet is first applied to the substrate by the method of cracking polymer templates using liquid silica and by spraying a metal with electronic conductivity. Reactive magnetron sputtering of the metal target is carried out in an atmosphere of a gaseous mixture of inert and reactive gases, with the deposition of an indium oxide coating on the substrate. Reactive magnetron sputtering uses a pure indium target and a gas mixture containing 21 % oxygen in it. EFFECT: decrease in the surface resistance of transparent conductive coatings with electronic conductivity, as well as the production of a transparent conductive coating with hole-type conductivity. 2 cl, 1 dwg, 2 ex