УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАПЫЛЕНИЯ : патент на изобретение

Описание

Перевод названия: DEVICE FOR ION-PLASMA SPUTTERING

Тип публикации: патент

Год издания: 2019

Аннотация:

Изобретение относится к области нанесения металлических и полупроводниковых пленок в вакууме поочередным или одновременным распылением наносимого материала и может быть использовано для покрытия деталей, используемых в изделиях электронной, приборостроительной и оптической отраслях промышленности. Устройство для ионно-плазменного напыления пленок содержит вакуумную камеру, в которой расположены анод, термокатод, мишень и подложкодержатель, и магнитную систему, расположенную снаружи вакуумной камеры и выполненную в виде колец Гельмгольца. Анод и термокатод размещены в отдельных нишах, при этом в открытом торце ниши термокатода установлен экран, имеющий узкое отверстие размером 80×15 мм, подложка расположена параллельно мишени и снабжена магнитоуправляемой заслонкой. Над мишенью установлен экран, оснащенный передвижной заслонкой. Мишень имеет систему охлаждения. Обеспечивается увеличение функциональных возможностей установки, что приводит к увеличению качества пленок, росту производительности, обеспечивает большую экономичность процесса, в том числе дает возможность в одном технологическом цикле напылять три различных материала как отдельными монослоями, так и их сплавами. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

FIELD: technological processes.

SUBSTANCE: invention relates to application of metal and semiconductor films in vacuum by alternating or simultaneous spraying of applied material and can be used for coating parts used in products of electronic, instrument-making and optical industries. Device for ion-plasma sputtering of films contains a vacuum chamber, in which there is an anode, a thermal cathode, a target and a substrate holder, and a magnetic system located outside the vacuum chamber and made in the form of Helmholtz rings. Anode and thermal cathode are arranged in separate recesses, at that in open end face of heat cathode niche there is a screen having narrow hole with size of 80×15 mm, the substrate is located parallel to the target and is equipped with a magnetically controlled gate. Screen equipped with a movable shutter is installed above the target. Target has cooling system.

EFFECT: enabling increase in the installation functional capabilities, which increases the films quality, increases productivity, ensures the process high efficiency, including enables to spray three different materials in one technological cycle by separate monolayers and their alloys.

1 cl, 2 dwg

Ссылки на полный текст

Вхождение в базы данных