Перевод названия: METHOD FOR INTELLECTUAL ANALYSIS OF OSCILLOGRAM
Тип публикации: патент
Год издания: 2019
Аннотация: Изобретение относится к способам распознавания образов. Технический результат заключается в расширении арсенала средств. Предложен способ интеллектуального графического обучения системы распознавания образов, при котором воспроизводят осциллограмму целиком либо частично на дисплее аналитической системы в виде статического изображения; проводят обучение аналитической системы путем указания на часть осциллограммы, которую необходимо принять за образец для анализа на предмет наличия в анализируемой осциллограмме периодов, отличных от указанных, указывают два или более периода осциллограммы, причем для полного достижения технического эффекта достаточно указания только двух периодов и нет необходимости точного указания периодов, возможно указание двух полных периодов с избыточными данными до начала первого и после окончания второго периода; определяют минимальное Ymin и максимальное Ymax значения осциллограммы по оси ординат в рамках указанного образца. 11 ил.<img src="/get_item_image.asp?id=37345772&img=00000001.jpg" class="img_big"> FIELD: information technology. SUBSTANCE: invention relates to methods of pattern recognition. Method for intelligent graphical training of a pattern recognition system, in which reproduce an oscillogram entirely or partially on the display of an analytical system in the form of a static image; carry out an analytical system training by indicating an oscillogram portion to be taken as a pattern for analysis to determine the presence in the analyzed oscillogram of periods different from said, indicate two or more oscillogram periods, wherein for the full achievement of technical effect-it is enough to indicate only two periods and there is no need to specify the periods accurately, it is possible to indicate two full periods with redundant data before the beginning of a first period and after the end of a second period; determine minimum Ymin and maximum Ymax oscillogram values along the ordinate axis within the specified pattern. EFFECT: wider range of tools. 1 cl, 11 dwg