Alternative technology for creating nanostructures using Dip Pen Nanolithography : научное издание

Описание

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2018

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Физика и техника полупроводников

Выпуск журнала: Т.52, 5

Номера страниц: 519-519

ISSN журнала: 00153222

Место издания: Санкт-Петербург

Издатель: Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук

Персоны

  • Lukyanenko A.V. (Siberian Federal University, 660041 Krasnoyarsk, Russia)
  • Smolyarova T.E. (Siberian Federal University, 660041 Krasnoyarsk, Russia)

Вхождение в базы данных

  • Ядро РИНЦ (eLIBRARY.RU)