Plasma chemical silicon etching process : доклад, тезисы доклада

Описание

Тип публикации: доклад, тезисы доклада, статья из сборника материалов конференций

Конференция: International Scientific Conference Reshetnev Readings 2015; Krasnoyarsk; Krasnoyarsk

Год издания: 2016

Идентификатор DOI: 10.1088/1757-899X/122/1/012028

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: IOP Conference Series: Materials Science and Engineering

Выпуск журнала: 122

Номера страниц: 012028

Издатель: Institute of Physics Publishing

Персоны

  • Rudenko K.V. (Institute of Physics and Technology,Russian Academy of Sciences)
  • Miakonkih A.V. (Institute of Physics and Technology,Russian Academy of Sciences)
  • Rogojin A.E. (Institute of Physics and Technology,Russian Academy of Sciences)
  • Bogdanov S.V. (Reshetnev Siberian State Aerospace University)
  • Sidorov V.G. (Reshetnev Siberian State Aerospace University)
  • Kovalev I.V. (Reshetnev Siberian State Aerospace University)

Вхождение в базы данных