ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ УСЛОВИЙ ВАКУУМНОГО НАПЫЛЕНИЯ ТОНКИХ МАГНИТНЫХ ПЛЕНОК НА ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПОЛУЧАЕМЫХ ОБРАЗЦОВ

Описание

Перевод названия: THE STUDY OF INFLUENCE THE TECHNOLOGICAL CONDITIONS OF VACUUM DEPOSITION OF THIN MAGNETIC FILMS ON MAJOR PROPERTIES OF PRODUCED SAMPLES

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2013

Ключевые слова: анизотропия, magnetic anisotropy, Vacuum deposition, thin magnetic films, saturation magnetization, вакуумное напыление, тонкие магнитные пленки, намагниченность насыщения

Аннотация: С помощью сканирующего спектрометра ферромагнитного резонанса проведены исследования влияния технологических условий вакуумного напыления тонких магнитных пленок на основные характеристики получаемых образцов. Показана сильная корреляция между распределением осей легкого намагничивания пленок и неоднородностью распределения внешнегПоказать полностьюо магнитного поля, приложенного во время напыления. Установлено, что небольшое отклонение угла падения атомов от нормали в процессе изготовления образцов также оказывает сильное влияние на магнитные характеристики тонких пленок. Using the scanning spectrometer of ferromagnetic resonance the study of influence the technological conditions of vacuum deposition of thin magnetic films on major properties of produced samples were performed. The strong correlation between easy directions of magnetic films and non-uniformity in distribution of external magnetic field, applied during the deposition, were shown. It was found that the small deviation of incidence angle of atoms from the normal during the producing of specimens also strong effected on magnetic parameters of thin films.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Известия высших учебных заведений. Физика

Выпуск журнала: Т. 56, 8-2

Номера страниц: 209-212

ISSN журнала: 00213411

Место издания: Томск

Издатель: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Национальный исследовательский Томский государственный университет

Персоны

Вхождение в базы данных