ВЛИЯНИЕ НАНОАЛМАЗОВ С МОДИФИЦИРОВАННОЙ ИОНАМИ МЕДИ ПОВЕРХНОСТЬЮ НА СВОЙСТВА МЕДНЫХ КОМПОЗИЦИОННЫХ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ : научное издание

Описание

Перевод названия: EFFECT NANODIAMONDS WITH MODIFIAD SURFACE BY CU-IONS ON THE PROPERTIES OF CUPPER COMPOSITE ELECTRODEPOSITION COATINGS

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2019

Ключевые слова: композиционные электрохимические покрытия, наноалмазы детонационного синтеза, модифицирование поверхности, кристаллическая структура, Composite Electrochemical Coatings, detonation-synthesis nanodiаmonds, surface modification, crystalline structure

Аннотация: В работе исследовалось влияние наноалмазов детонационного синтеза, с модифицированной ионами меди поверхностью, на свойства композиционных электрохимических медных покрытий. Показано, что внедрение наноалмазов (НА) и модифицированных наноалмазов (МНА) незначительно увеличивает размер зерен покрытий, но при этом делает их рост болееПоказать полностьюравномерным. Введение МНА влияет на кристаллическую структуру покрытий, создает преимущественный рост кристаллитов меди вдоль плоскости (220). Микротвердость покрытий с МНА увеличивается на 18 %, а износостойкость возросла на 7% по сравнению с покрытиями без добавок, в то время как у покрытий с НА снизилась более, чем на 50%. The effect of detonation synthesis nanodiamonds with a surface modified by copper ions on the properties of composite electrochemical copper coatings was investigated. It is shown that the introduction of nanodiamonds (NA) and modified nanodiamonds (MNA) slightly increases the grain size of coatings, but at the same time makes their growth more uniform. The introduction of MNA affects the crystal structure of coatings, creates a predominant growth of copper crystallites along the plane (220). Microhardness of coatings with MNA increases by 18 %, and wear resistance increased by 7% compared to coatings without additives, while coatings with NA decreased by more than 50%.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Южно-Сибирский научный вестник

Выпуск журнала: 4

Номера страниц: 19-23

ISSN журнала: 23041943

Место издания: Бийск

Издатель: Общество с ограниченной ответственностью Малое инновационное предприятие Политех

Авторы

Вхождение в базы данных