Тип публикации: статья из журнала
Год издания: 2017
Идентификатор DOI: 10.1016/j.jmmm.2016.12.051
Ключевые слова: Fe-Si films, Ferromagnetic resonance, Iron silicide, Magnetic anisotropy, Oblique sputtering, Thin magnetic films
Аннотация: The structure and the magnetic anisotropy of the films obtained by simultaneous deposition of iron and silicon on n-Si(111) 7×7 at 130 °C are investigated. It is found the uniaxial magnetic anisotropy field for the Fe1−xSix films with x=0.25 (Fe3Si stoichiometric ratio) deposited on Si(111) 7×7 depends on both the surface miscut anПоказать полностьюgle and the oblique sputtering direction and changes from 0.82 Oe up to 117.26 Oe. © 2016 Elsevier B.V.
Журнал: Journal of Magnetism and Magnetic Materials
Выпуск журнала: Vol. 440
Номера страниц: 161-163
ISSN журнала: 03048853
Издатель: Elsevier B.V.